该系列生产线主要用于在平板玻璃、压克力、PC、PET、等表面镀高质量、多功能金属膜、电磁屏蔽膜、反应膜、复合膜、透明导电膜、抗反射（AR）、增反射膜、LOW-E等膜层。本公司可按用户要求提供设计，提供全套设备，负责工艺，按交“钥匙”工程服务。
设备特点：
设备采用真空磁控溅射技术，孪生阴极，中频溅射技术，并配先进的控制系统。
生产过程全部自动，连续进行。被镀工件加热温度**高达350℃以，温度分区控制可调。
真空室体材料采用SUS304，真空室内
真空室之间采用独立门阀隔开，我们设计的是插板阀，可以有效隔断，稳定工艺气体。目前国内只有我们公司具有这项技术设计生产插板阀，它比目前国内通用的翻板阀密封效果更好，更耐用。
传动采用磁导向，保障传动的稳定性。整条生产线的各段速度采用变频调速电机驱动，运行速度可调节。
电气控制系统：触膜屏与PLC自动控制，人机对话方式来实现系统的数据显示、操作与控制。
主要技术参数：
a.极限真空：7×10-4pa
b.平均生产周期：80秒/架
c.基片架尺寸：850×1500（mm）（可以根据要求定做）
d.膜层均匀性：±2％
e.膜层稳定性：达到国际标准