A96761    溅镀、真空溅镀技术及设备专利全文专辑

 （本辑280元，含下列91项）

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溅镀
01、一种溅镀方法及溅镀设备
02、含贵金属溅镀靶材的制作方法
03、高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置
04、溅镀承载装置
05、一种用于溅镀式镀膜机台的承载台
06、应用溅镀工艺在太阳能电池基板上制作薄膜的方法
07、溅镀用承载装置
08、溅镀靶材
09、溅镀装置、透明导电膜的制造方法
10、溅镀装置及溅镀方法
11、一种真空溅镀防电磁波干扰膜之不良膜面的处理方法
12、钽基化合物的陶瓷溅镀靶材及其应用方法和制备方法
13、清洁溅镀机的方法
14、溅镀装置
15、溅镀靶材
16、溅镀靶材牌的电子束焊接
17、磁电管及溅镀靶间的间距补偿
18、LCP基材防EMI镀膜的溅镀前处理方法
19、LCP基材溅镀防EMI镀膜的前处理方法
20、塑料基材上镀覆高遮蔽防电磁干扰薄膜的溅镀方法
21、防止被溅镀物品变形的方法
22、对向靶材式溅镀装置
23、以真空溅镀在塑胶基材上被覆抗EMI薄膜的方法
24、塑胶件真空溅镀中提高镀层附着性的方法
25、阳极板及包括所述阳极板的溅镀装置
26、溅射源、溅镀装置、薄膜的制造方法
27、一种多功能溅镀系统及溅镀方法
28、抗菌纺织材料的负压溅镀制造方法及其产品
29、溅镀设备供电系统、电压控制信号形成系统及方法
30、溅镀靶材的制造方法
31、轮圈混色溅镀制程
32、溅镀机台及其溅镀载台
33、高PTF溅镀靶和制造方法
34、用于平面溅镀的二维磁电管扫描
35、用于高功率溅镀的电源联接器
36、用于反射型平面显示器的反射膜及溅镀靶材的合金材料
37、提高溅镀靶使用率的预溅镀方法
38、磁控式摇摆扫瞄型溅镀机
39、自动检测半导体芯片位置的溅镀系统
40、磁控管溅镀装置和方法
41、溅镀装置及其使用此装置的金属层/金属化合物层的制造方法
42、铟锡氧化物的溅镀工艺与形成铟锡氧化物层的方法
43、一种以真空溅镀法制作多层陶瓷电容器的方法
44、磁控及非平衡式磁控物理溅镀多层覆合超硬薄膜之方法
45、盘片溅镀遮罩
46、用于溅镀镀膜的阳极
47、一种磁控及非平衡式磁控物理溅镀ZrCN于微型钻头的方法
48、磁控溅镀装置
49、溅镀清洗室的晶座设计及应用该设计的金属化制造过程
50、溅镀靶及其制造方法
51、溅镀靶安装到垫板上的方法和设计
52、溅镀靶及其制造方法
53、阴极溅镀装置
54、在溅镀蚀刻工艺中监控蚀刻腔体内离子浓度的方法及装置
55、溅镀—薄膜于—塑料制品上的方法及其塑料制品
56、具有两个溅镀用阴极的、用于对平的基片进行镀膜的设备
57、清洁短路后的溅镀室高压阴极的方法和装置
58、真空溅镀装置
59、平面磁控溅镀的方法和设备
60、低压溅镀的方法与装置
61、溅镀清洗室的晶座设计及应用该设计的金属化制造过程
62、以气喷粉末制作铝合金溅镀靶材的方法
63、金属溅镀靶材的制造方法
64、金属硅化物溅镀靶
65、用于平面溅镀的二维磁电管扫描
66、导电性阻障层、尤其是钌钽合金及其溅镀沉积方法
67、溅镀靶材的制造方法
68、溅镀式镀膜装置
69、溅镀装置
70、溅镀式镀膜装置及方法
71、偏压晶片时的铝溅镀

溅射镀
72、一种溅射镀膜装置和方法
73、多工位轴瓦磁控溅射镀膜装置
74、应用于磁控溅射镀膜中的膜厚修正工艺及系统
75、能量过滤磁控溅射镀膜方法及实施该方法的装置
76、磁控溅射镀膜机的永磁枪靶装置
77、一种磁控溅射镀膜用低熔点金属与背板加工工艺
78、防污染超高真空磁控溅射镀膜装置
79、电磁波屏蔽织物的真空溅射镀膜和化学镀膜复合制造方法及其产品
80、多级加速模式下磁控溅射镀膜方法
81、磁控溅射镀膜夹具及其使用方法
82、能热处理的、耐久的、红外反射的溅射镀膜玻璃及其制造方法
83、匹配的、可热处理的、耐久的、不反射的溅射镀膜玻璃及其制造方法
84、溅射镀膜设备的靶中阴极和接地屏蔽极的配置
85、改进了的可热处理溅射镀膜玻璃层系
86、一种磁控溅射镀吸收膜工艺
87、溅射镀膜装置
88、真空多元溅射镀膜方法
89、一种在SiC微颗粒表面磁控溅射镀铜膜的方法
90、溅射镀膜离子束辐照增强方法
91、电子陶瓷连续式溅射镀膜设备