黄光室是进行IC晶片微影成像术的区域,将光阻材料利用旋镀法被覆在晶园上,而后再放置于曝光机下进行曝光,以使紫外线光源透
过光罩照射于光阻而得到感光图像,**后再以药剂进行显影而得到实际图像。
早期曝光机的光源为全光谱光源,后演进到G-LINE(436
mm)光源,目前**为广泛使用的为I-LINE(436mm)光源,对于
0.3ūm线宽以下的IC制程,则需采用深紫外线(deep UV)248mm光源,甚至X光或电子束,目前光源较采用高压水银(汞)弧灯,由
于其特性频谱,所以须经过滤光片以获得所需的I-LINE(365mm)光线。
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