沈阳半导体清洗超纯水设备-沈阳光伏产业用水设备-莱特莱德专业提供电厂除盐水站、电子半导体超纯水系统! 沈阳半导体清洗超纯水设备,沈阳光伏产业用水设备,美国E-CEEL 半导体清洗超纯水设备水质标准: 半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。 新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。 在光伏行业电子管生产中,光伏行业电子管阴极涂甫碳酸盐。如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命,因此其配液要使用纯水,在显像管和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧火粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用纯水,如纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水,每生产一个晶体管需高纯水80kg。液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液,如纯水中有金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致报废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质的要求
在光伏行业晶体管、集成电路生产中,纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,III族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20%~50%)会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。
2.材料的影响 沈阳半导体清洗超纯水设备,沈阳光伏产业用水设备,美国E-CEEL 半导体清洗超纯水设备应用场合: ☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液 ☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水 ☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 ☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液 ☆晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制 ☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片 ☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏 ☆高品质显像管、萤光粉生产 ☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗 ☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料 ☆实验室和中试车间 ☆汽车、家电表面抛光处理 ☆光电产品、其他高科技精微产品 半导体清洗超纯水设备制备工艺: 1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺) 2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥16MΩ.CM)(**新工艺) 3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(**新工艺) 沈阳半导体清洗超纯水设备,沈阳光伏产业用水设备,美国E-CEEL |
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