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超平釉的生产工艺

超平釉与全抛釉在生产流程上区别不大，但是在一些程序和工艺研发方面则需要研发力量的投入。

超平釉在**后一道施釉工序上，比普通的全抛釉要加厚，普通的全抛釉**表层透明釉厚度为0.5—1mm，而超平釉则达到2～3mm。在抛光工序上，超平釉虽然跟全抛釉一样需要经过“刮平—粗抛—精抛”三道工序，但是超平釉采用的是硬抛磨具进行抛光，即“硬抛”，而全抛釉则采用软抛磨具进行抛光，即“软抛”，在抛光程度上有一定的差异。

超平釉的特点

1、超平釉产品**突出的特点是采用了硬抛技术，制造出顺滑平整的砖面，弥补了普通全抛釉与生俱来带有水波纹的缺陷，平整度极高。

2、超平釉实现了全抛釉品质与质感的全新升级。超平釉系列产品因为运用了新技术，除了拥有普通全抛釉的明亮光泽与花色图案，还有着玉石的温润质感与更丰富的艺术表现力，花色纹理更加立体丰满，色彩过渡更自然逼真。

3、超平釉的莫氏硬度与普通全抛釉相比，得到显著提高，莫氏硬度达到6级，克服了全抛釉和微晶石较易磨损的缺点。

4、超平釉抗热震、抗龟裂的性能也大大优于普通全抛釉。

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