捷扬光电的膜厚测量系统基于白光干涉测量原理,可以测量的膜层厚度10nm-50μm,分辨率为1nm。薄膜测量在半导体晶片生长过程中经常被用到,因为等离子体刻蚀和淀积过程需要监控;其它应用如在金属和玻璃材料基底上镀透明光学膜层也需要测量膜层厚度。配套的捷扬光谱分析软件包括丰富的各种常用材料和膜层的n值和k值,可以实现膜层厚度的在线监测,并可以输出到Excel文件进行过程控制。
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