| 用途： | 去除助焊剂残留 | 类型 | 水基型 |
|---|---|---|---|
| PH值使用范围 | 中性 |
HYDRON? SE 220是一款水基型单相清洗液,专门设计用于浸没式清洗工艺.
HYDRON? SE
220能够有效去除芯片黏着后引线框架、分立器件、功率模块、功率LED等多种半导体电子器件上的助焊剂残留，对于倒装芯片、CMOS等器件也有卓越的清洗效果。
由于其独特的单相配方，HYDRON? SE 220能在浸没式清洗工艺中提供卓越的清洗结果。同时，可以轻松用去离子水进行漂洗，且漂洗后不会有任何残留。
该产品的pH呈中性，因此具有很好的材料兼容性，特别不会对芯片表面的钝化层造成影响。
HYDRON? SE 220能够提供洁净、被激活的铜表面，能使铜表面在短暂时间内保持在理想状态，为后续邦定、成型、黏胶等工艺做好准备。
HYDRON? SE 220无闪点，可使用在浸没式清洗设备中，且无需防爆保护。
不含卤素成分，气味低
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