我们公司主要致力于离子镀技术和设备的开发与研究。离子镀膜技术（简称离子镀，Ion Plating，也称PVD），是当代**新表面处理方法之一，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流、电弧放电技术，利用气体放电或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将被蒸发物质或其反应产物沉积在基片上。

离子镀技术是一种真正能够获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法。可在真空环境中制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等）、氮化物（TiN，TiAlN）和碳化物（TiC）薄膜、多层膜、复合膜等。所镀的各种膜层可以使金属表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导磁、导电或绝缘、装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用；并且工件原来的尺寸几乎不受影响。膜层能够改善工件表面的外观，提高表面的强度和耐磨性，而且具有很好的导热，防腐蚀及防刮擦的能力。

通过离子镀方法获得的薄膜，具有小晶粒尺寸、高缺陷浓度、较低的再结晶温度（金属）、较低的屈服点、较高的内应力、亚稳态的结构、成份上的非化学配比等特性。

和真空蒸发镀膜以及溅射镀膜方法相比较，离子镀膜具有如下优良的特点：

附着性能好（清洗作用和过度层的形成）；

绕射性能好（碰撞及电力线的分布）；

可镀膜材种类广泛；