应用领域：
1. 等离子诱导表面改性
2. 等离子清洗（NF3）
3. 反应离子蚀刻
4. 等离子体聚合
5. PECVD沉积SiO2、Si3N4、类金刚石、硬质薄膜等
技术指标：
1） 平板尺寸：8”
2） 源直径：5”或8”
3） 气体输入管数量：4（两个反应气，一个载气，一个排空管）
4） 源距平板的距离：2”或者可调
5） 真空：低于E-7Torr，200L/sec涡轮分子泵及3.5cfm机械泵组合
6） **大平板温度：800℃
7） 射频电源供应：600W，13.5MHz
8） 射频偏压：300W，13.5MHz
产品型号：
NPE-3000 桌面型PECVD系统
NPE-4000 立式型PECVD系统
