型号
真空室尺寸
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LH-800
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LH-1000
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LH-1250
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¢800×1000MM
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¢1000×1000MM
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¢1250×1100MM
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镀膜方式及主要配置
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八个多弧靶
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十个多弧靶
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十二个多弧源
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镀膜方式及主要配置
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电弧电源、灯丝电源、脉冲偏压电源
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工艺气体控制
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质量流量计+电磁陶瓷阀
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真空室结构
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立式侧(单)开门结构,后置抽气系统,双层水冷
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真空系统组成
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分子泵+罗茨泵+机械泵(5.0×10-4PA),扩散泵+罗茨泵+机械泵(5.0×10-4PA)
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工件烘烤温度
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常温到350度可调可控(PID控温),辐射加热
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工件运动方式
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公自转变频调速,0~20转/分
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测量方式
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数显复合真空计:测量范围从大气至1.0×10-5PA
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控制方式
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手动/自动/PC/PLC+HMI/PC四种方式可选
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备注
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以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做
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