该系列设备主要是（集）直流磁控溅射，中频溅射和电弧电子蒸发三种技术融合一体，结合线性离化脉冲偏压可使沉积颗料细化，膜层各项性能提高，能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等。经公司技术人员多年专注研发，通过特有的阴极电弧离子和非平衡磁控系统，并开发出整套PROPOWER系列计算机自动控制系统，使镀膜膜层附着力致密度、从复度一致性好等特点，解决了人工手动操作复杂性、膜层颜色不一致等问题。广泛适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求耐磨起硬的、模具等。镀制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各类金属石膜（DLC）。
1、 磁控溅射的原理是基于阴极辉光放电理论，把阴极表面磁场扩展到接近工件表面，提高了溅射原子离化率。既保留磁控溅射的细腻又增强了表面光泽度。
2、 电弧等离子体蒸发源性能可靠，在优化阴极及磁场结构镀膜时可在30A电流下工作，镀膜膜层和基底界面产生原子扩散，又具有离子束辅助沉积的特点。
| 型号真空室尺寸 |
JTZ-800 |
JTL-1000 |
JTL-1250 |
| ￠800×1000MM |
￠1000×1000MM |
￠1250×1100MM |
|
| 镀膜方式及主要配置 |
六个多弧源＋一套圆柱靶＋一套平面矩形磁控溅射靶 |
八个多弧源＋一对孪生（中频）磁控溅射靶＋一套平面矩形磁控溅射靶 |
十二个多弧源＋一对孪生（中频）磁控溅射靶＋两套平面矩形磁控溅射靶 |
| 镀膜方式及主要配置 |
电弧电源、直流磁控电源、中频磁控电源、灯丝电源、脉冲电源、线性离化源 |
||
| 工艺气体控制 |
质量流量计＋电磁陶瓷阀 |
||
| 真空室结构 |
立式侧（单）开门结构，后置抽气系统，双层水冷 |
||
| 真空系统组成 |
分子泵＋罗茨泵＋机械泵（5.0×10-4PA） |
||
| 工件烘烤温度 |
常温到500度可调可控（PID控温）,辐射加热 |
||
| 工件运动方式 |
公自转变频调速,0~20转/分 |
||
| 测量方式 |
数显复合真空计:测量范围从大气至1.0×10-5PA |
||
| 控制方式 |
手动/自动/PC/PLC＋HMI/PC四种方式可选 |
||
| 备注 |
以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做 |
||
Tel：
￥24.00元
￥24.00元
￥24.00元
Tel：
￥面议
￥面议
￥面议
Tel：
￥面议
￥面议
￥3400.00元
Tel：
￥10000.00元
￥10000.00元
￥10000.00元
