半导体晶片，芯片清洗用超纯水设备，电子工业超纯水设备，电子芯片清洗用超纯水设备，电子半导体晶片用超纯水设备，电子行业超纯水设备，半导体超纯水设备， 纯水设备反渗透设备，反渗透纯净水设备、反渗透水处理设备、纯水设备，高纯水设备、超纯水设备、纯水工程、纯净水设备、上海纯水设备、水处理设备、反渗透纯水设备、高纯水制取设备，电渗析设备，

电子半导体行业水质标准：

 我公司电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准，我国电子工业部电级水质技术标准（18MΩ.cm、15 MΩ、10MΩ、2MΩ、0.5MΩ.cm）,我国电子工业部高纯水质试行标准，美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

电子工业对水质的要求：

微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成密度越高，对水质的要求也越高。这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了严格的要求。

 应用领域：

·半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
·超纯材料和超纯化学试剂；
·实验室和中试车间
·汽车、家电表面抛光处理；
·其他高科技精微产品。

工艺流程：

1、预处理－反渗透－水箱－阳床－阴床－混合床－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－精密过滤器－用水对象

2、预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象

3、预处理－二级反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象

4、预处理－二级反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（**新工艺）

水质标准：

（符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级）