沈阳EDI超纯水设备--单晶硅超纯水设备--超纯水处理设备**莱特莱德！

设备概述： EDI超纯水设备,沈阳半导体超纯水设备,沈阳工业超纯水设备

　　EDI在传统的水处理系统中可替代现有的混床，它能够连续稳定地制出高纯度的水。EDI的**大优点在于不用化学药剂进行再生，因而不需要化学再生药剂贮存罐及相应的中和池，而且无须对有害的化学废水进行收集、贮存及处理，结果使EDI大大的简化了系统。

　　RO的应用降低了对大型设备间的要求，而**近的EDI技术则完全地排除了这一点。由于EDI系统仅要求天花板的高度不超过18英尺(5.49米)，即在通常的设备间内无高罐存在，在要求成套设备迅速地安装起来以投入运行时，对高度规格无特别的要求是极为重要的。

　　还有一个优点是，EDI排出的浓水中仅含有进水中的杂质成分，通常这种水的水质比预处理系统的进水水质要好，故浓水可以直接地排至RO的入口，这样就有效地消除了对废水的排放。相反，混床的再生是一个一次性的过程，由于使用化学药剂再生树脂床，其废液中含有比一般EDI浓水高3-4倍的废弃离子，这类废液通常不回收到预处理系统中，而是排放于废水中和池内。

　　RO-EDI的运行过程是连续的，其生产的水质稳定，它不象混床在每一个再生周期的开始及结束阶段因离子的泄漏而影响出水水质。这种连续运行的方式也简化了操作，无需设置与循环的再生工作相关的操作人员及操作程序。

　　EDI纯水装置优势

　　1.占地空间小，省略了混床和再生装置;

　　2.产水连续稳定，出水质量高，而混床在树脂临近失效时水质会变差;

　　3.运行费用低，再生只耗电，不用酸碱，节省材料费用;

　　4.环保效益显著，增加了操作的安全性。

　　不需要酸碱化学试剂来再生(绿色环保)

　　与同类进口产品比，能耗下降30%左右，节约运行费用

　　EDI在线再生，无需加盐系统

　　出水水质稳定一致

　　能够建立简单的EDI系统

　　容易实现整体式的膜块排列

　　重量轻，结构紧凑

　　EDI优点： EDI超纯水设备,半导体超纯水设备,工业超纯水设备

　　1.出水水质具有**佳的稳定度。

　　2.能连续生产出符合用户要求的超纯水。

　　3.模块化生产，并可实现全自动控制。

　　4.不需酸碱再生，无污水排放。

　　5.不会因再生而停机。

　　6.无需再生设备和化学药品储运。

　　7.设备结构紧凑，占地面积小。

　　8.运行成本和维修成本低。

　　9.运行操作简单，劳动强度低。

　　性能参数：

　　EDI装置的工作过程通过交换羟基离子或氢氧根离子去除不想要的离子，然后将这些离子输送到废水流中。离子交换反应在组件的纯化室中进行，在那里阴离子交换树脂释放出氢氧根离子(OH-)而从溶解盐(如氯化物、Cl-)中获得阴离子。同样，阳离子交换树脂释放出氢离子(H+)而从溶解盐中(如钠、Na+)获得阳离子。

　　EDI装置是应用在反渗透系统之后，它利用模块两端电极使水中的带电离子移动，并配合离子交换树脂及选择性树脂膜，以加速离子移动去除，进而达到水的纯化，产水电阻率可达到15--18M。

　　进水要求及性能参数

　　进水总盐量(CaCO3计) <25ppm或50μs/cm TOC <0.5ppm

　　5.0～9.0 余氯 <0.05ppm PH

　　硬度(CaCO3计) <2.0ppm Fe、Mn、H2S <0.01ppm

　　可溶硅 <0.5ppm 工作温度 5～40℃

　　工作压力 1.0～2.0bar 工作压差 0.4～1.0bar

　　水利用率 >95% 产水水质 >8.0MΩ.cm

　　产水质量达到16MΩ?CM以上(25摄氏度);回收率90-95%。

　　工艺流程  EDI超纯水设备,半导体超纯水设备,工业超纯水设备

　　水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准(18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)

　　●预处理-反渗透- 水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象

　　●预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

　　●预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

　　●预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(**新工艺)

选项指导： 

　　EDI模块(膜堆)是EDI工作的核心。一个简单的EDI膜堆主要由两个电性相反的电极和多个模块单元对组成，一个膜单元对由一个填满阳离子和阴离子交换树脂的淡水室(D-室)、一个阳膜、一个阴膜、一个浓水室(C-室)组成。EDI膜堆包含多个膜单元对。在每个膜堆的内部有两个带有600V电压的电极，这是通过每个膜堆必需的电压。正极带正电压，负极带负电压，电流在正极和负极之间通过30个膜单元。任一个淡水室都包含着阳树脂和阴树脂，它相当于一个8千米厚的混床。一个阳膜朝着阴极的方向把淡水室和浓水室分开，在另外一边，阴膜也把淡水市和浓水室分开。EDI用的膜和RO用的膜很不相同，RO用的膜允许小颗粒的分子污染物和离子以及水通过，而EDI膜象离子交换树脂一样是用聚苯乙烯材料制作的，只允许带适当电荷的离子通过，水基本上不能通过。树脂通过水的分离持续的再生。在电场中，给水中的水分子被分离成H+和OH- ，被异性电荷相吸，H+通过阳阳树脂移向阴极的方向，OH-通过阴树脂移向阳极的方向。这种H+和OH-的迁移再生了树脂，阳膜允许H+通过进入浓水室，阴膜允许 OH-通过也进入浓水室，H+和OH-结合生成生产的水。浓水室中自己水的流动将带走水中的阴阳离子。膜阻止带相反电荷的离子的进入淡水室在水流通过淡水室的过程中，离子被树脂去处，所以膜的有效侧(淡水室)就会产生纯水。

　　再循环---一个重要的工序

　　在EDI中，90%到95%的水流过淡水室，水流并行的通过多个膜堆，每个膜堆都并联很多个淡水室，水流一次性的通过淡水室，流出来的就是高纯水。另外的5%-10%被送到浓水室，其中3%-8%流出EDI后作为补充水，2%用来冲洗电极。浓水的再循环增加了水的电导率而要

　　增加EDI系统通过的电流。EDI废水的PH主要由给水的品质决定。通常都是品质很好的水，PH接近中性。排放的浓水可以通过返回到进水口进行回收，极水包含低浓度的氢气、氧气和氯气要送到一个通风的地方进行排放。在过去的三年内，EDI系统已经被许多的水处理的领域所接受，今天几乎一半的新建的电厂和半导体水处理系统和75%制药水系统包括EDI。**近的研究已经铺平了DEI膜的发展道路，在将来的岁月里，将要为电能的节约和水品质的提高，特别是硅和硼的减少而努力。在将来的几年内，可以预测更高质量的水质可以被制出，而且将对进水的水质要求要降低，特别是硅和硬度的要求。

　　附1：EDI的维护需求    EDI超纯水设备,半导体超纯水设备,工业超纯水设备

　　EDI在一个设计良好的系统中需要很少的维护。使用的仪表每1-2年需要一次校准。强烈推荐每周要把压力、流量、电流数据做几次(4-7?)记录在案，以便以后用来研究污物和浓缩比例的问题。当预处理工作不正常或者预系统设计的不好时候，浓缩比例和污染会存在。当发现污染的时候，在很多情况下清洗可以恢复膜的性能。制药系统将根据预处理系统的清洗来决定EDI系统的清洗，其清洗的过程和所用的化学物和RO系统很相似。

　　EDI的膜堆的寿命为5-10年甚至更长，膜堆确切的寿命主要取决于水源、预处理系统和维护水平、根本上还是取决于其所使用的阴离子的强度的稳定性，在一个标准的设计中，简单的膜的问题可以通过隔离而解决，这只需要几分钟，

　　甚至不需要停运系统。

　　附2：怎样设计一个EDI系统?

　　连同EDI膜堆在一起，一个完整的EDI系统应包括整流器、控制系统、装置、管道、阀门和再循环泵。所有这些安装在一个底座上。这些部件和我们在RO系统中的那些部件很相似，但整流器除外，它通过把一个三相的交流电转变成直流电来为EDI系统提供能量。EDI的生产厂家为每个膜提供了一个标准流速。就象RO的设计和建造一样，原始设备制造商根据特定的应用设计了柔性的膜组。在通常的系统中包括RO和EDI。可以根据增加和减少膜的数量来改变产水量。很多单一膜组的系统设计每分钟5-10加仑的流量。通过增加多个膜组可以增加更多的流量。EDI是一个精处理技术。应用纯净的RO产品水或者渗透水作为给水而进一步纯化。预处理设计要求出水水质严格达到EDI进水水质的要求。下面的表是EDI系统典型的进水水质要求。根据原水水质的不同，可以采用不同的流程来达到进水水质的要求。城市水处理的典型流程是 多介质过滤器→活性炭处理→单级RO→EDI。在高硬度的水处理中，软化被加入到处理的流程中：多介质过滤器→活性炭处理→软化设备→单级RO→EDI。

　　在系统的设计中，CO2也是一个关键因素。分子的CO2可以通过RO膜给传统后续设计混床或者EDI中的阴离子交换树脂加重阴离子的交换负担。当进入EDI系统的时候，根据在系统中PH分布情况，CO2将以CO32-和HCO3-形式被去除。如果要达到相同质量的水质，应该增加额外电流来克服这些额外的CO2。低PH将增加进水中的CO2，(in some cases)在一些情况下，我们通过加苛性碱来增加PH，把CO2转化成碳酸盐和重碳酸盐有效的增加RO膜的去除率。多介质过滤器→活性炭处理→加苛性碱→单级RO→EDI。在一些情况下，加酸用来防止RO膜结垢，这种情况就需要脱碳器和脱气装置来去除CO2 或者用阻垢剂来代替加酸。多介质过滤器→活性炭处理→加酸→单级RO→脱气装置→EDI。多介质过滤器→活性炭处理→加阻垢剂→(加苛性碱)→单级RO→EDI。如果EDI系统来水水质电阻可以达到16M欧姆或者可以提供更好水质的保证，那么为了制取相当纯的水(电阻大于18兆欧姆)，精制系统可以采用不可更新的混床。用于精制的混床系统的负载非常小，通常可以运行1-2年，然后重新更换新的再生好的树脂，这样也可以避免化学处理。预处理系统→RO→EDI→一次性混床。混床系统一般需要两列，而EDI系统不需要容余，它可以连续再生，模块化设计、内建容余。然而在半导体和其他重要的电厂，即使在设备不运行的时候，它可能每分钟也要花费**终用户成千上万美圆。(在这种情况下)既然这样，**终用户更愿意接受有RO的EDI的容余。

　　附表1：

　　水处理技术的发展表

　　(**代)：预处理+阴阳离子交换树脂+混床

　　(第二代)：预处理+RO+混床

　　(第二代)：预处理+RO+EDI

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