高纯水制取设备,朝阳生化仪配药用水,朝阳医院用水设备

水质：出水水质>15MΩ.cm
用途:医药行业、电子工业，半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。
        水是药物生产中用量**大、使用**广的一种基本原料，用于生产过程及药物制剂的制备，制药用水是制药业的生命线。随着科学技术的不断进步，有关制药用水的制备技术也发生了革命性的改变。在世界许多发达国家如美国，注射用水(Water for Injection WFI)必须由蒸馏工艺制备这一局限早已被突破，技术更先进、更节能、品质更稳定可靠的高纯水(Highly Purified Water HPW)及其制备工艺早在1975年已经得到正式确认(美国药典第19版:USP19)。

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制药工艺用水分类和水质标准：
　　莱特莱德的制药超纯水设备系统遵循模块化设计理念，以预处理、氧化消毒、多介质过滤、RO反渗透、UV消毒、EDI连续去离子和储存外输等功能单元为基础，在设计、制造、调试过程中将鸾江水处理先进的技术、精湛的工艺和严格的质量控制贯彻到每个功能单元；**终产水装置根据其用水标准的不同，经由各功能模块优化组合而成，从而保证了整个系统的高性能与高质量，使产成水完全达到或超过纯化水和注射用水的水质标准。
 
制药行业制备超水的工艺大致分成以下几种：

1、采用离子交换方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤→阴树脂过滤→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点
2、采用两级反渗透方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透 →PH调节→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
3、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

4、原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→PH值调节→高效混合器→精密过滤器→高效反渗透→中间水箱→EDI水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

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制药超纯水设备的工艺特点：

在设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级反渗透＋EDI水处理工艺，确保处理后的超纯水水质符合要求，水利用率高，运行可靠，经济合理。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

超纯水设备应用领域： 　　

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；　　

电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水； 　　

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；　　

生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液； 　　

晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；　　

集成电路生产中高纯水清洗硅片； 　

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水； 　　

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；

高品质显像管、萤光粉生产；　　　

汽车、家电表面抛光处理等。

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