鞍山电子工业超纯水设备

主要用途：
　　微电子产品生产用高纯水，半导体、显象管制造业用超纯水，集成电路板生产清洗用超纯水，蓄电池、锂电池、太阳能电池、干电池等生产用水。
 1.电子工业超纯水概述   电子工业超纯水设备,鞍山超纯水设备,鞍山多晶硅超纯水设备
    半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

2.制备电子工业超纯水的工艺流程
电子工业制备超纯水的工艺大致分成以下3种：
　　 1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
　　 2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
　　 3、采用反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的**新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点  

3.EDI结构和工作原理  电子工业超纯水设备,超纯水设备,多晶硅超纯水设备

EDI常与RO连用, 构成RO-EDI纯水系统。如上所述，EDI已设计成标准模块，EDI单元就是由若干模块组合而成。每个EDI模块结构如图 1 所示, 有数个双腔室夹在两个电极(加直流电) 之间，呈层叠式板框结构；双腔室包括淡水腔(用D表示) 和浓水腔(用C表示)；二腔之间隔以一对阴、阳离子膜(亦称阴向膜或阳向膜) ，阴、阳膜间装填阴阳树脂混合床构成D室；该阴、阳膜分别与另一D室中的阳、阴膜间构成C室。

进水按一定比例通过C室和D室。离子在D 室的行为可以理解为四个过程：

①离子在电场作用下向浓水室迁移；

②离子与树脂的结合；

③水的电离和迁移, 迁移到C室中的H+ 和OH- 离子又结合成水；

④由于电场作用，离子不断从树脂上离解, 使树脂不断再生。

与普通混床不同之处在于, 进入D室中的阴、阳离子先是与树脂结合, 而后在直流电场作用下从树脂上不断离解, 分别通过阴、阳膜向阳极和阴极移动, 树脂同时得以再生。由于上述平衡作用, 在水流方向上形成浓度梯度, 可根据进水情况和出水要求调节电流(电压) 大小, 使流出的水为不含阴、阳离子的纯水; 由于膜对阴、阳离子的选择通透性, 进入C室的离子不能通过另一极膜而在C室浓缩。

典型的EDI系统中, 90%～ 95% 的进水是通过D腔的, 5%～ 10% 的进水通过C腔。为了防止结垢, 浓水用泵强制循环, 高速通过膜面。浓水部分排放; 排放的浓水可返回RO再处理。

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4.电子工业超纯水设备特点
     电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。  

5.电子工业超纯水的应用领域
     1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水；
　　 2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水；
　　 3、实验室和中试车间用超纯水；
　　 4、汽车、家电表面抛光处理；
　　 5、光电子产品；
　　 6、其他高科技精微产品；