元素范围：铝13到铀92。
x射线激发能量：50 W(50 kv和1 ma)钨靶射线管
探测器：硅PIN检测器250 ev的分辨率或更高的分辨率
测量的分析层和元素：5层(4层镀层+基材)和10种元素在每个镀层成分分析的同时多达25元素
过滤器/准直器：4个初级滤波器,4个电动准直器（0.1 0.2 0.3 1.5mm）
数字脉冲处理:4096 多通道数字分析器与自动信号处理，包括X射线时间修正和防X射线积累
电脑:英特尔酷睿i5 3470
处理器(3.2 ghz),8 gb DDR3内存,微软Windows
7专业64位等效
镜头:1/4 " cmos - 1280 x720 VGA分辨率
电源:150 w、100 ~ 240伏,频率范围47赫兹到63赫兹
工作环境:50°F(10°C)到104°F(40°C)小于98% RH,无冷凝水
重量:32公斤
内部尺寸:高:140毫米(5.5”),宽:310毫米(12),深:210毫米(8.3”)
140*310mm
外形尺寸:高:450毫米(18英寸),宽:450毫米(18),深:600毫米(24)
450*450mm
膜厚测试仪X射线荧光分析是快速非破坏性的检测方法,操作简便,准确度高,分析范围广.它已在科学研究、地质、冶金以及其它各部门,得到了广泛的应用,并成为一种重要的分析手段.实验系数法和基本参数法是近十几年发展起来的荧光X射线分析方法.它是借助于电子计算机来完成的,已逐步地用来测定复合物的含量和薄膜的厚度,并得到了良好的效果。
膜厚测试仪采用X
光管作X射线源，其能量和强度连续可调，可保证在测量范围内的每个厚度都达到**佳测量精度。
联系人: 舒翠
电话: 0755-29371655
传真: 0755-29371653
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