该系列设备主要是(集)直流磁控溅射,中频溅射,和多弧离子三种技术融合一体,可适应广泛镀膜靶材,无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜,使膜层附着力、致密度、重复度及颜色一致性好等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAIN、CrN、CU、AU、金刚石膜(DLC)、装饰膜等非金属及化合物的膜层和复合膜层。可编程序控制器(PLC)+触膜屏(HMI)组合电器控制系统,全自动控制。
本公司主要产品有:立式/卧式镀膜机、光学镀膜机、磁控溅射镀膜机、中频磁控溅射镀膜机、真空镀膜机、多弧离子镀膜机。
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