产品特点:
采用频率为数十千赫兹的中频电源,配备经过严格磁路设计的孪生靶(对靶),可以避免“打火”、“阳极消失”、“靶中毒”等现象,提高了离化率、溅射速率,显著提高沉积速度,适合做化合物薄膜(如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等)的沉积。中频磁控离子镀膜机在近几年得到了迅猛的发展,在钟表、眼镜、五金等装饰度领域得到广泛的应用。
技术参数:
▲真空室箱体:主要规格有800*1000mm、1000*1200mm,并可以根据客户具体要求设计非标产品。
▲夹具方式:采用公自转行星式齿轮结构,工件速度在1-15转/分钟可调。
▲控制气体方式:采用质量流量计控制,进气稳定,反应速度快。
▲靶:采用整体制造技术,严格缜密的磁场设计和磁路布局,溅射刻蚀均匀。
▲电源:配置有中频电源(20KW、40KW等规格)、直流脉冲电源(电压、占空比可调节),并可根据实际的情况加装离子源等辅助设施。
▲抽气系统:采用国产品牌机械泵、罗茨泵、扩散泵,根据其真空室大小确定合理型号。也可以根据客户的需要配备分子泵或者进口泵等。
▲抽真空参数:从大气抽至5*10 ̄?Pa≤15min极限真空度8*10 ̄4Pa。
触摸画面
单扩散泵触摸屏
自动控制前面板
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