利用真空状态下弧光放电原理的离子镀膜技术，是率先发展起来的真空镀膜方式，具有沉积速率高、结合牢固、设备运行稳定等优点，我们在传统多弧的基础上，对靶结构、磁铁、冷却等进行了严格的改进和设计，提高了离化率、细化颗粒，膜层和基材结合更加牢固、膜层更加致密，硬度耐磨性显著提高，厚度可以控制在0.5微米—5微米之间，是普通装饰镀和工具镀膜的**机型。

根据市场的需求公司研制出辅助阳极、磁过滤、矩形平面靶、圆柱旋转电弧靶等衍生产品，沉积的膜层达到纳米量级，是制备高硬度、高结合力、高耐膜性a-tc、DLC膜层的良好选择。

技术参数：

真空箱体：主要规格有800*1000mm、1000*1200mm、1200*1500mm、1500*1600mm、1800*1950mm，并可以根据客户具体要求设计非标产品。

夹具方式：采用公自转行星式齿轮结构，工件速度在1-15转/分钟可调，挂具有6轴、8轴、10轴、12轴等各种规格，适合不同大小尺寸的装饰、工具镀膜。

控制气体方式：采用质量流量计控制，进气稳定，反应速度快，可以配加自动压强控制。

靶：采用整体制造技术，结构合理而简单，维护更换靶材方便，具有自动/手动引弧功能。

电源：配置直流脉冲电源（电压、占空比可调节），逆变电弧电源。

抽真空参数：从大气抽至5*10￣?Pa≤15min 极限真空度8*10￣4Pa 控制系统可以选用手动控制；计算机控制，触摸屏面板控制。

抽气系统：采用国产品牌机械泵、罗茨泵、扩散泵，根据其真空室大小确定合理型号。也可以根据客户的需要配备分子泵或者进口泵等。

7、磁控+多弧离子镀膜机器

该机型在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶，设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点，同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点，适合镀各种复合膜层，，可以做到多复合膜层一次性完成，膜层具有很高的结合力、硬度、耐磨系数，特别适合钟表、五金刀具、工艺品厂家的IPG、IPS、刀具搀杂、复合膜层的制备。

技术参数：

真空箱体：主要规格有800*1000mm、1000*1200mm，并可以根据客户具体要求设计非标产品

夹具方式：采用公自转行星式齿轮结构，工件速度在1-15转/分钟可调

控制气体方式：采用质量流量计控制，进气稳定，反映速度快

靶：采用整体制造技术，严格缜密的磁场设计和磁场布局，溅射刻蚀均匀。

电源：配置有高频直流电源（20KW、40KW等规格）、直流脉冲电源（电压、占空比可调节），逆变电弧电源，并可根据实际的情况加装离子源等辅助设施。

抽真空参数：从大气抽至5*10￣?Pa≤15min 极限真空度8*10￣4Pa 控制系统

抽气系统：主要配备KT-600兰州扩散泵。配备ZJ600罗茨泵以及2X-70旋片泵各一台。其他非标产品根据其真空室大小确定所配备的真空抽气机组。也可以根据客户的需要配备分子泵等