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利用真空状态下弧光放电原理的离子镀膜技术,是率先发展起来的真空镀膜方式,具有沉积速率高、结合牢固、设备运行稳定等优点,我们在传统多弧的基础上,对靶结构、磁铁、冷却等进行了严格的改进和设计,提高了离化率、细化颗粒,膜层和基材结合更加牢固、膜层更加致密,硬度耐磨性显著提高,厚度可以控制在0.5微米—5微米之间,是普通装饰镀和工具镀膜的**机型。 |
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▲真空室箱体:主要规格有800*1000mm、1000*1200mm、1200*1500mm、1500*1600mm、1800*1950mm,并可以根据客户具体要求设计非标产品。 ▲夹具方式:采用公自转行星式齿轮结构,工件速度在1-15转/分钟可调,挂具有6轴、8轴、10轴、12轴等各种规格,适合不同大小尺寸的装饰、工具镀膜。 ▲控制气体方式:采用质量流量计控制,进气稳定,反应速度快,可以配加自动压强控制。 ▲靶:采用整体制造技术,结构合理而简单,维护更换靶材方便,具有自动/手动引弧功能。 ▲电源:配置直流脉冲电源(电压、占空比可调节),逆变电弧电源。 ▲抽气系统:采用国产品牌机械泵、罗茨泵、扩散泵,根据其真空室大小确定合理型号。也可以根据客户的需要配备分子泵或者进口泵等。 ▲抽真空参数:从大气抽至5*10 ̄?Pa≤15min极限真空度8*10 ̄4Pa控制系统可以选用手动控制;计算机控制,触摸屏面板控制。 |
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