产品特点:
该机型在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶,设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点,同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点,适合镀各种复合膜层,,可以做到多复合膜层一次性完成,膜层具有很高的结合力、硬度、耐磨系数,特别适合钟表、五金刀具、工艺品厂家的IPG、IPS、刀具搀杂、复合膜层的制备。
技术参数:
▲真空室箱体:主要规格有800*1000mm、1000*1200mm,并可以根据客户具体要求设计非标产品
▲夹具方式:采用公自转行星式齿轮结构,工件速度在1-15转/分钟可调。
▲控制气体方式:采用质量流量计控制,进气稳定,反映速度快。
▲靶:采用整体制造技术,严格缜密的磁场设计和磁场布局,溅射刻蚀均匀。
▲电源:配置有高频直流电源(20KW、40KW等规格)、直流脉冲电源(电压、占空比可调节),逆变电弧电源,并可根据实际的情况加装离子源等辅助设施。
▲抽气系统:采用国产品牌机械泵、罗茨泵、扩散泵,根据其真空室大小确定合理型号。也可以根据客户的需要配备分子泵或者进口泵等。
▲抽真空参数:从大气抽至5*10 ̄3Pa≤15min极限真空度8*10 ̄4Pa控制系统
电阻蒸发+磁控镀膜机
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