产品简介:
研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570,是搭载了爱发科开创的磁性中性线(NLD- neutral
loop discharge)等离子源的装置,此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。。
产品特性:
NLD用于与ICP方式相比更低压、高密度、更低电子温度等离子体的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工
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高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不纯物的多种玻璃加工,在形状或表面平滑性方面有优异的刻蚀性能
? 石英及玻璃作为厚膜resist mask时的也可实现深度刻蚀(100μ
m以上)
? 可实现高速刻蚀(石英>1μ m/min、Pyrex>0.8μ
m/min)
? 可追加cassette室
产品应用:
? 光学器件(光衍射格子、変调器、光开关等等)、凹凸型微透镜
? 流体路径作成或光子学结晶
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