有机/金属热蒸发—沉积镀膜设备，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，主要用于有机半导体材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验OLED实验研究。
设备特点：
1. 超高真空密封主要采用如下技术：玻璃金属焊接技术、陶瓷金属焊接技术、刀口无氧铜金属密封技术等，整机主要采用金属密封技术，前开门用氟胶圈，真空管路用不锈钢金属波纹管路，采用超高真空阀门。
2. 运动部件的密封，采用磁力耦合动密封技术。
2. 旋转部件的密封，采用磁流体密封技术。
4. 基片加热器采用进口铠装加热丝结构。
5. 蒸发舟配磁力耦合挡板，基片配磁力耦合挡板，保证镀膜的可控性。
6.极限真空 5×10-5P
7.基片加热600℃可以调控，控制精度±1℃。
8.膜厚测试采用膜厚仪。
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￥24.00元
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