半导体湿法清洗设备
设备为浸泡使清洗机，用于扩散炉等设备的石英管、碳化硅管清洗。
1.本机设有内外两个清洗槽，内槽为酸洗槽，外槽为水洗槽，内外槽均装在隔离槽内，与底部和周围隔离。
2.隔离槽底部倾斜，**低处设有排水管，隔离槽后设有排气装置。
3.清洗槽左右两端设有纯水喷枪和氮气喷枪。
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